装置一覧
装置名 | 機関・部局 | 波長 | レーザー種 | ビーム数 | 運転モード | パルスエネルギー | パルス幅 | 繰り返し | ピークパワー | 平均パワー | 集光径 | 集光強度 | 特徴 | 照射環境 | 使用可能計測器 |
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GXII-ω(激光XII号ω) | 大阪大学 | 1053 nm | Nd: Glass-ω | 12 | Pulse | 12 kJ | 1.5 ns | 4 /day | 8 TW | 25 µm | 1.4×1017 W/cm2 | 国内最大のパワーレーザー装置。超高エネルギー密度状態の研究。 レーザーによる超高強度磁場の発生。 | 真空 | X線ストリークカメラ 可視ストリークカメラ X線分光器 X線フレーミングカメラ 電子スペクトル計測 トムソンパラボラ 可視光分光器 中性子検出器 オシロスコープ |
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GXII-2ω(激光XII号2ω) | 大阪大学 | 527 nm | Nd: Glass-2ω | 12 | Pulse | 6 kJ | 1.5 ns | 4 /day | 4 TW | 25 µm | 7.0×1016 W/cm2 | 十二本のレーザービームを2倍高調波に変換し、爆縮核融合研究などに利用。 | 真空 | X線ストリークカメラ 可視ストリークカメラ X線分光器 X線フレーミングカメラ 電子スペクトル計測 トムソンパラボラ 可視光分光器 中性子検出器 |
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GXII-3ω(激光XII号3ω) | 大阪大学 | 351 nm | Nd: Glass-3ω | 12 | Pulse | 3 kJ | 1.5 ns | 4 /day | 2 TW | 25 µm | 3.4×1016 W/cm2 | 3倍高調波に変換し、爆縮核融合研究。 レーザー加速や実験室宇宙物理研究。 | 真空 | X線ストリークカメラ 可視ストリークカメラ X線分光器 X線フレーミングカメラ 電子スペクトル計測 トムソンパラボラ 可視光分光器 中性子検出器 |
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LFEX | 大阪大学 | 1053 nm | Nd: Glass CPA |
4 | Pulse | 0.35 kJ | 1.5 ps | 3 /day | 250 TW | 25 µm | 5.0×1019 W/cm2 | 超高強度・高エネルギーレーザー装置。 爆縮燃料の高速点火レーザー核融合。量子ビーム発生や核物理研究。 | 真空 | X線ストリークカメラ 可視ストリークカメラ X線分光器 X線フレーミングカメラ 電子スペクトル計測 トムソンパラボラ 可視光分光器 中性子検出器 |
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EUV用レーザー | 大阪大学 | 1064 nm | Nd:YAG | 1 | Pulse | 1 J | 5 ns | 10 Hz | 200 MW | 1.0×1012 W/cm2 | EUV光源発生用レーザー | 真空 | |||
EUV光 | 大阪大学 | EUV | Plasma | 1 | Pulse | <1J | ns | EUV光源。EUVリソグラフィー。 材料プロセス。 | 真空 | EUV分光器 カロリーメータ |
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Thz用レーザー | 大阪大学 | 800 nm | Ti:Sapphire | 1 | Pulse | <1J | <ps | THz光源用レーザー | 大気 | ||||||
THz光 | 大阪大学 | THz | 半導体など | 1 | Pulse | <1J | <ps | THz光源。 | 大気 | THz検出器 | |||||
J-KAREN (High Rep) | 量子科学研究開発機構 | 810 nm | Ti:Sapphire CPA |
1 | Pulse | 1 J | 30 fs | 10 Hz | 33 TW | 10 W | 1 µm | 1×1021 W/cm2 | 安定な高出力レーザーを10Hzの繰り返しで利用可能。 | 真空 | フェムト秒パルス測定装置 X線CCDカメラ 高速度ゲードICCDカメラ 電子スペクトルメータ プローブ計測システム 散乱光計測システム |
J-KAREN (High Energy) | 量子科学研究開発機構 | 810 nm | Ti:Sapphire CPA |
1 | Pulse | 10 J | 30 fs | 0.1 Hz | 333 TW | 1 W | 1 µm | 1.0×1022 W/cm2 | 国内最高出力のPWレーザー施設。レーザーイオン加速、プラズマX線レーザー、量子ビーム発生などに利用 | 真空 | フェムト秒パルス測定装置 X線CCDカメラ 高速度ゲードICCDカメラ 電子スペクトルメータ プローブ計測システム 散乱光計測システム |
High Power ns | 理化学研究所 | 532 nm | Nd:YAG-2ω | 1 | Pulse | 15 J | 5 ns | 0.1 Hz | 3 GW | 1.5 W | 170 µm | 1.3×1013 W/cm2 | X線自由電子レーザーSACLAのBL3と同期使用できるレーザー装置 | 真空 | 大面積フラットパネルディテクター マルチポートCCDカメラ 高解像度X線イメージング検出器 速度干渉計(VISAR) 放射輝度温度計(SOP) |
XFEL (SASE) | 理化学研究所 | 0.31-0.06 nm | SASE | 1 | Pulse | 0.6 mJ | 10 fs | 30 Hz | 60 GW | 500 nm | 3.1×1016 W/cm2 | SACLAのSASE(自然放出光の自己増幅出力(0.5% b.w.) | 真空 | パワーレーザーと同時使用 | |
XFEL (モノクロ) | 理化学研究所 | 0.31-0.06 nm | SASE, Si-111 | 1 | Pulse | 6 µJ | 10 fs | 30 Hz | 600 MW | 500 nm | 3.1×1017 W/cm2 | SACLAのSASE光を分光結晶により単色化(0.01% b.w.)した出力 | 真空 | パワーレーザーと同時使用 | |
266nm20Wピコ秒レーザー加工装置 | 東京大学 | 266 nm | Nd:YAG-4ω | 1 | Pulse | 13 ps | 1 MHz | 20 W | ガラス、複合材などの難加工材料の穴開け、切断など。高出力のピコ秒深紫外光源 +高速ビームスキャンにより、高品位微細加工を高スループットで提供 | 大気 | レーザー顕微鏡など | ||||
ハイブリッドArFレーザー試験加工機 | 東京大学 | 193 nm | ArFレーザー | 1 | Pulse | 0.5 ns | 6 kHz | 10 W | セラミックスなどの難加工材料の穴開け、切削など。サブナノ秒パルス幅の波長 193nm光により、大気、窒素の各雰囲気下で加工可能。ガルバノスキャナーによるフリーフォーム加工に対応。 | 大気 | レーザー顕微鏡など | ||||
パルス幅可変レーザー加工装置 | 東京大学 | 1033 nm | Ybレーザー | 1 | Pulse | 400 ~ 400000 fs | 1 MHz | 100 W | セラミックスなどの難加工材料の穴開け、切削など。パルス幅、パワーなどのパラメータを高速可変可能。自動計測によりパラメトリックデータ取得。 | 大気 | レーザー顕微鏡など | ||||
レーザー加熱加工装置 | 東京大学 | 940 nm | 半導体レーザー | 1 | CW Pulse |
4 ms | 2.5 kW | 鉄鋼材料の焼き入れなどの熱処理加工。パルス幅、照射プロファイルが可変でき、加工位置の温度モニタリング機能を搭載しているため、条件の最適化と品質の安定化が可能。 | 大気 | レーザー顕微鏡など | |||||
GaN系半導体レーザー加工装置 | 東京大学 | 412.5 nm | 半導体レーザー | 1 | CW | 130 w | 銅箔などの切断、溶接など。青色レーザー高ビーム品質加工により、ファインプロセスが可能。 | 大気 | レーザー顕微鏡など | ||||||
高輝度高出力 青色半導体レーザー加工装置 | 東京大学 | 450 nm | 半導体レーザー | 1 | CW | 450 W | 2.6×1006 W/cm2 | 銅や銅合金などの高い反射率を持つ加工材の溶接、切断。出力ファイバーのコア径は100µm、NA0.2。パワー密度は 2.6MW/cm2、出力可変(0-200W)、アナ ログ/デジタル信号での変調が可能、制御用PCアプリを用いた制御も可能。 | 大気 | レーザー顕微鏡など | |||||
T6 Laser | 京都大学 | 800 nm | Ti:Sapphire CPA |
1 | pulse | 500 mJ | 40 fs ~ 1 ps | 5 Hz | 12.5 TW | 2 µm | 1.0×1020 W/cm2 | チャープパルス増幅 (CPA) チタンサファイヤレーザー。1020 W/cm2の集光強度が利用可能な高出力レーザーシステム。 (T6 :Table Top Ten TW Ten Hz Titanium sapphire laser) | 真空 | 超高速電子顕微鏡 | |
複合レーザービーム装置 | 京都大学 | 800 nm 400 nm |
Ti:Sapphire CPA |
2 | pulse | 1 mJ | 40 fs ~ 1 ps | 10 Hz | 25 GW | 2 µm | 2×1017 W/cm2 | 2波長超短パルスレーザーの同時使用システム | 真空 | 超高速電子顕微鏡 |